年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99,996%)

三氟化氮（Nitrogênio Trifluoreto），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯⽚、平板显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体和反应腔清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量热来实现其应⽤.

O trifluoreto de nitrogênio, fórmula química NF3, é um forte agente oxidante. Como um importante gás industrial especial, possui uma ampla gama de aplicações.
Na indústria microeletrônica, o trifluoreto de nitrogênio é um excelente gás de gravação a plasma; No chip semicondutor, tela plana, fibra óptica, células fotovoltaicas e outros campos de fabricação, o trifluoreto de nitrogênio é usado principalmente como gás de gravação de plasma e agente de limpeza de cavidades de reação.
Também pode ser usado em lasers químicos de alta energia para atingir sua aplicação reagindo com o hidrogênio para emitir uma grande quantidade de calor em um instante. O trifluoreto de nitrogênio também é usado como combustível de alta energia e como oxidante e propelente em lançamentos de foguetes.